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上海伯东 Pfeiffer 分子泵 HiPace 80 应用于 PLD 脉冲激光沉积设备

来源:叶南晶|

发表时间:2023-02-24

点击:2135

上海伯东某 OEM 客户研发生产科研用真空镀膜和沉积设备. 经过伯东推荐真空部分采用 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 80 和高精度薄膜真空规 CMR 361 用于定制大型脉冲激光沉积 Pulsed Laser Deposition 系统. 从而实现该系统制备金属, 半导体, 氧化物, 氮化物, 碳化物, 硼化物, 硅化物, 硫化物及氟化物等各种物质薄膜和制备一些难以合成的材料膜, 如金刚石, 立方氮化物膜等.


科研定制 PLD 系统配置:


分子泵 HiPace 80 *8


薄膜真空规 CMR 361 *3


真空规 TPR 280 *1


普发分子泵"



伯东 Pfeifer 分子泵 HiPace 80 主要参数和抽气性


型号

HiPace 80

进气口

DN 63 CF-F

极限真空 hPa

< 5X10-10

氮气的压缩比

> 1X1011

氮气的抽气速度 l/s

67

工作电压: V DC

24 (± 5 %)

氮气的前级真空最大值 hPa

22

重量 kg

3.8

噪音 dB(A)

≤48


普发分子泵"

上海伯东德国 Pfeiffer 涡轮分子泵适用于


分析仪器: 电子显微镜, 检漏, 小型质谱, 表面分析, 残余气体分析


半导体: PVD, inspection, bonding, MBE, load-locks


工业: 医学技术, 工业检漏, 隔离真空, 灯管制造


研发: 核研究, 等离子研究, 粒子加速器, 冷冻研究, 纳米技术, 生物技术


若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :


上海伯东 : 罗先生 台湾伯东 : 王小姐


T: 86-21-5046-1322 T: 886-3-567-9508 ext 161


F: 86-21-5046-1490 F: 886-3-567-0049


M: 86 152-0195-1076 M: 886-939-653-958


www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw


伯东版权所有, 翻拷必究!


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