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中芯晶研半导体有限公司入驻有材®云展会,碳化硅晶片、氮化镓晶片等产品展示中!

来源:新材料在线|

发表时间:2022-12-09

点击:14125



热烈祝贺厦门中芯晶研半导体有限公司入驻有材®云展会!


厦门中芯晶研半导体有限公司是一家集半导体晶体生长、工艺开发和外延为一体的高新技术企业,专门研究和生产化合物半导体晶片;包括磷化铟(InP)晶片、锑化镓(GaSb)晶片、砷化镓(GaAs)晶片、砷化铟(InAs)晶片、锑化铟(InSb)晶片、氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)半导体材料的生长和外延,产品广泛应用于LED半导体照明和半导体功率器件包括功率器件,高温器件和光电器件。


主营业务/产品:碳化硅晶片,氮化镓晶片,磷化铟晶片,砷化镓晶片,砷化铟晶片,锗片……


部分展品展示


锑化铟(InSb)晶片




锑化铟是由元素铟和锑组成的结晶化合物,属于窄带隙半导体,具有稳定的物理化学性能和优良的工艺相容性。其能隙在300K时为0.17eV,在80K时为0.23eV。未掺杂的锑化铟拥有高于已知半导体材料的室温电子迁移率(78000cm2/Vs)。


碳化硅(SiC)晶片


碳化硅由纯硅和碳组成,与硅相比具有三大优势:

1、更高的临界雪崩击穿场强;

2、 更大的导热系数;

3、更宽的禁带。


因此,碳化硅晶片可以承受比硅大8倍的电压梯度而不会发生雪崩击穿。禁带越宽,在高温下的漏电流就越小,效率也越高。而导热系数越大,电流密度就越高。


SiC衬底具有更高的电场强度,因而可以使用更薄的基础结构,其厚度可能仅为硅外延层的十分之一。此外,SiC的掺杂浓度比硅高2倍,因此器件的表面电阻降低了,传导损耗也显著减少。



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