科华微确认演讲《多重图形技术用光刻材料的研究进展》--2022年半导体材料及工艺创新发展论坛

演讲嘉宾介绍

陈昕，北京科华微电子材料有限公司董事长、彤程新材首席科学家。1982年毕业于北京化工大学，先后在化工部兰州化工研究院、北京燕山石化公司研究院从事科研工作；1985年赴美留学；1990年毕业于美国麻州大学高分子化学专业，毕业论文获得当年ANTEC的最佳学生论文奖；1992年进入美国的Shipley公司开始进入光刻胶领域从事248nm 光刻胶的研发工作。1993年与另外两名股东共同创建美国的MCC公司继续其对光刻胶的研究，曾作为专题负责人数次申请到美国NSF，英国DRA出资的研究项目，并且获得美国2002/2003年度有贡献的专业人士奖。2003年创建美国MENG TECHNOLOGY公司，2004年在中国创建北京科华微电子材料有限公司，专业从事高档光刻胶的研发和生产。2010年建成248nm光刻胶中试线、建立能够满足高档248nm深紫外光刻胶研发及测试平台。2014年248nm光刻胶正式进入中国市场，并取得了国内集成电路制造企业的订单。

北京科华微电子材料有限公司

北京科华微电子材料有限公司是一家中美合资企业，成立于2004年，是一家产品覆盖KrF（248nm）、I-line、G-line、紫外宽谱的光刻胶及配套试剂的供应商与服务商，也是集先进光刻胶产品研、产、销为一体的拥有自主知识产权的高新技术企业。 科华微电子拥有中高档光刻胶生产基地，分别有百吨级环化橡胶系紫外负性光刻胶和千吨级负性光刻胶配套试剂生产线、G/I线正胶生产线（500 吨/年）和正胶配套试剂生产线（1000 吨/年）、百吨级248nm光刻胶生产线。  科华微电子光刻胶产品序列完整，产品应用领域涵盖集成电路（IC）、发光二极管（LED）、分立器件、先进封装、微机电系统（MEMS）等。产品类型覆盖KrF（248nm）、G/I线（含宽谱），主要包括：KrF光刻胶DK1080、DK2000、DK3000系列；g-i line光刻胶KMP C5000、KMP C7000、KMP C8000、KMP EP3100系列和KMP EP3200A系列；Lift-off工艺使用的负胶KMP E3000系列；用于分立器件的BN、BP系列等。  科华微电子研发技术力量雄厚，拥有多名光刻胶专家，具备很强的光刻胶原材料合成、配方及相关基础评价能力；能够持续推出符合客户需求的新产品；科华微电子自成立以来，承担了多项国家、北京市级光刻胶重点研发及产业化项目。  科华微电子有完备的支持产品研发和出厂检验的分析和应用测试平台。公司拥有两个mini FAB，有分辨率达到0.11um的ASML PAS5500/850扫描式曝光机、Nikon步进式曝光机、TEL ACT8涂胶显影一体机和Hitachi S9220 CD SEM等主流设备。上述测试平台确保了科华能够开展KrF、G/I线光刻胶产品及关键原料的开发与全面评估。  科华微电子管理体系完整，拥有质量管理体系（ISO9001）、环境管理体系(ISO14001)、职业健康安全管理体系（ISO45001）和有害物质过程管理体系（IECQ QC080000）四个体系。  科华微电子产品技术先进，拥有国内或国际专利数项，产品质量稳定，是中芯国际、上海华力微电子、长江存储、华润上华、杭州士兰、吉林华微电子、三安光电、华灿光电等行业顶尖客户的稳定合作伙伴。