图片来源:日立
今日,日立公司宣布采用新一代碳化硅(SiC)材料开发新型高效节能的功率半导体器件TED-MOS,有助于电动汽车(EV)节省能源。 该功率半导体结合传统DMOS-FET(SiC晶体管)以及具有沟槽鳍结构的MOSFET半导体的优点。 与传统的DMOS-FET相比,使用这种新设备,可以节能达到50%,电场强度(耐久性指数)降低了40%,电阻降低了25%。 日立计划将此设备应用于电动机驱动逆变器,作为EV的核心部件,可提高能效。 此外,该技术不仅应用于电动汽车中,而且还会在社会基础设施系统中使用,比如电气传感器中。日立希望为减少全球变暖和实现低碳社会做出贡献。
随着全球能源需求的预期增长,以及可持续发展目标和COP21等倡议,日立公司正在制定减少环境负荷的目标,实现可持续发展。 由于预计电动汽车的采用率也将大幅提升,因此降低电动汽车的功耗被认为是至关重要的。因此,使用SiC半导体材料作为功率半导体可以为逆变器提供显着的节能特性,这引起了研究人员的广泛关注。 然而,一个问题是,在SiC功率半导体中,与硅(Si)器件不同的是,其电阻会随着晶面变化而变化。 尽管已经提出沟槽SiC MOSFET结构(图1(2)),与传统的DMOS-FET(图1(1)),可以在较低的电阻下促进晶面上的电流流动。 但是,由于电场容易集中在基面上的沟槽边缘,因此难以同时实现高耐久性。
为了应对这一挑战,日立改进原始的鳍片结构DMOS-FET,通过增加沟槽制备出新的半导体材料-“TED-MOS”。随后,在较高的电压(3.3 kV)工业应用中,通过较小的沟槽间距和较低的电场实现了电阻的降低和高耐久性 ,并于2018年5月在美国芝加哥举行的功率半导体器件和IC(ISPSD)国际研讨会上介绍了这些成果。
实验表明,增强EV逆变器的“TED-MOS”,在较低的电压(1.2 kV)下需要更高的电流密度(图1(3))。 场弛豫层(FRL)可广泛地降低电场强度,其中用于缓和施加电压的PN结在器件结构的中心形成。 此外,“电流扩散层(CSL)”能够降低n-JFET区域中的电阻,其用于形成连接鳍状沟槽的侧面的电流路径作为低电阻晶面和 n-JFET区域。 结果表明,“TED-MOS”同时在SiC功率半导体中实现了更小的电场强度和更低的电阻。
使用原型设备验证了该技术开发的好处。 结果发现,与传统的DMOS-FET相比,“TED-MOS”将电场强度降低了40%,电阻降低了25%,同时保持了EV中电机驱动所需的额定电压1.2kV。 此外,上述改进的器件结构还改善了功率半导体的导通/截止之间的切换速度,该切换操作引起的电流的能量损失也减少了50%。
展望未来,
日立将通过将该技术应用于各种电子传感器,不仅在电动汽车中,而且在各种社会基础设施系统中,为防止全球变暖和实现低碳社会做出贡献。
原文来自:phys,原文题目:Highly durable silicon carbide (SiC) power semiconductor TED-MOS for energy saving in electric vehicle motors,由科技在线团队汇总整理。