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光学膜技术发展与市场探讨

来源:新材料在线|

发表时间:2015-12-03

点击:7758

2015光学膜市场与技术发展论坛于1125日在深圳会展中心会议室举行,论坛旨在增进行业上下游的交流,共同探讨光学膜的技术发展与市场现状。会议围绕ITO光学膜、硬化膜等膜方面的现状及未来趋势、精密涂布、湿法涂布及涂布设备等涂布工艺和流程的问题、注意要点等议题进行充分讨论。

首先由中科院宁波材料技术与工程研究所的宋伟杰研究员就面向平板显示的透明导电膜技术的膜材料演变及发展进行了探讨,指出短期内市场上应用最为广泛的仍然会是ITO薄膜,ITO膜具有大面积均匀性好,腐蚀特性好等特性是目前市场上其他薄膜如金属网格、纳米银、石墨烯、导电聚合物等所不具备或不成熟的。同时指出目前透明导电膜的应用领域较窄,未来市场广阔。

 

张家港康得新光电材料有限公司的宋明雄技术总监主要介绍了精密涂布制备工技术的相关知识,指出精密涂布核心技术所在。并纤细讲述了Slot DieMicro Gravure等常见涂布工艺及要点,最后分享了涂布制备中常见问题及解决方案与同行进行了沟通交流。

 

苏州汉纳材料科技有限公司的千野直义高级顾问及陈新江总经理向我们讲述了光学膜制造中的湿法涂布技术中的注意要点及解决方案,指出涂布过程中应注意膜和液体的表面张力的大小,只有两者的表面张力接近时才会有很好的涂布效果,也指出只有相邻两种液体的表面张力相接近时才能同时进行多种涂布。千野先生还表示常见的涂布方式有commadirect gravure直接凹印、reverse gravure反向凹印、air knife气刀涂布等方式,但看好wire barDie两种涂布工艺。

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